喷涂硅靶材/粉体高纯4~6N 电子玻璃喷涂靶材可定制

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品牌拓吉泰

详细介绍

单位	米	纯度	3N
种类	旋转靶/平面靶

喷涂硅靶材 Spray Si Target
产品说明Product description
以等离子体为热源，在真空环境，或负压氮气或氩气保护环境下将Si粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层，从而制备出高纯度、低氧含量、高致密度Si靶材。
With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density Si targets are produced from Si powder. The Si powder is heated to molten or semi-molten state in vacuum /span> negative pressure of nitrogen (N₂) /span> (Ar) and deposited on the surface of backing tube at high speed to form dense coatings.
产品特点Products feature

项目 Item	参数 Specifications	检测手段 Testing method
纯度Purity（Si+B）	≥ 99.99%
密度Density	≥2.2 g/cm³	阿基米德密度仪 Archimedes densimeter
杂质含量Inclusions	Fe +Al+Ca: ≤50 ppm B: ≤100 ppm O: ≤2000 ppm N: ≤500 ppm 杂质总和(O、N、B除外): ≤100 ppm Total impurity (excluding O, N, B ): ≤100 ppm	ICP
电阻率 Electrical resistivity	≤10Ω·cm	四探针电阻率仪 Four probe resistivity meter

背管材质 Backing tube
-选用304/316L不锈钢（无磁）。

304/316L stainless steel (non-magnetic).

靶材尺寸Dimension
-按照图纸要求加工
According to customized drawings.

应用领域Applications
-用于制作SiO₂/Si₃N₄膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，Low-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏。
For deposition of SiO₂/Si₃N₄ films, for optical glasses, AR films of touch panel screens, Low-E glasses, semiconductor devices and flat panel screens.

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喷涂硅靶材/粉体 高纯4~6N 电子玻璃喷涂靶材 可定制

304/316L stainless steel (non-magnetic).

喷涂硅靶材/粉体高纯4~6N 电子玻璃喷涂靶材可定制